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高纯硼靶材 硼颗粒 氮化硼靶材 陶瓷溅射靶材

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北京金源新材科技有限公司
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金属溅射靶材

B :高纯硼靶材 纯度99.9

原子量: 10.811

熔点:2075

沸点:2550

密度:2.34

我公司采用3N硼为原料制作溅射靶材,可用于耐高温合金工业,半导体材料,核化学中用作种子吸收剂。

B靶材111.jpgB靶材211.jpgB靶材311.jpg硼颗粒311.jpg氮化硼靶材111.jpg

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产品属性
品名
硼
牌号
B
产地
北京
含量≥
99.9
杂质含量
0.1
重量
100
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