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旋转硅靶Si
化学式: Si电阻率(20°C): 0.01-400Ω.cm成型工艺: 喷涂密度: 2.26g/cm³(96)纯度: 99.9 应用: 用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏
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