二，主要技术指标：

UPS射频源，精控，，光学膜厚仪监控波长范围：400-1100nm，波长精度：<±1nm， 配置离子源，离子流密度分布均匀; 基底 高加热温度：300℃。 目前可淀积材料包括：SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O5、Al2O3等 蒸发速率0.5A/s-20A/s， 工作真空：5E-6mbar， 气体（Ar、O2）

三，主要功能：

主要用于可见~短波红外波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片，窄带、超窄带、极窄带滤光片等光学薄膜蒸镀，配备两把电子和等离子体辅助源，一次可蒸镀多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等）的样品。

六，真空蒸发镀膜原理

1.1 将膜材置于真空镀膜室内 ， 通过蒸发源使其加热蒸发 。 当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后 ， 蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出 ， 在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子 （ 主要是残余气体分子）的碰撞阻碍，可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。

1.2 真空镀膜特点

真空蒸镀法优点：设备比较简单 、操作容易；制成的薄膜纯度高 、质量好，厚度可较准确控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单；

缺点：不容易获得结晶结构的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附着力较小；工艺重复性不够好等。